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金刻蚀光栅
 

>>> 选择光栅需要考虑的问题    

 

 

 

       该系列光栅主要用于高功率以及高效率的应用。

 

       我们在金材料上设计和刻蚀光栅,用于红外波段(412微米)的激光应用。金光栅特别适合于追求高效率红外激光应用。在高功率应用中,为了避免高功率激光打坏光栅,通常都要在光栅上镀一层铝。该系列光栅的基质是不胀钢或者陶瓷。如果您希望用其他基质,可以和顶尖公司联系。

 

产品性能

      ●在特殊基质上刻蚀的金层可以用于412微米的应用。

        在铜基质上铝层刻蚀出来的是标准的分子激光光栅。

主要参数

    线密度g/mm  .............. 70 450

    工作范围(µm) ............. 412

    基质  ................... 铜,不胀钢,陶瓷,硅

    通光孔径  ............... 90%

    划线与边缘的平行度 ....... ± 0.5°

    尺寸公差 ................ ± 0.5 mm

    厚度公差  ............... ± 0.5 mm

    典型峰值效率(偏振).................95%

 
 
 
 
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